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發(fā)布時間：
2021-11-17
球形二氧化硅微粉用作填充料可以極大提高制品剛性、耐磨性、耐侯性、抗沖擊、抗壓、抗拉性、耐燃性、良好的耐電弧絕緣特性和抗紫外線輻射的特性，我們一起來看下二氧化硅在電子晶片中的一些用途。
精密研磨粉高純球型硅粉用于光學(xué)器件及光電行業(yè)的精密研磨，特別適合研磨、拋光半導(dǎo)體單晶多晶硅片、顯像管玻殼玻屏、光學(xué)玻璃、液晶顯示器（LCD、LED）玻璃基板、壓電石英晶體、化合物半導(dǎo)體材料（砷化鎵、磷化銦）、磁性材料等半導(dǎo)體行業(yè)。拋光粉通過超細(xì)、分級制備的超微粉，是金屬件良好的拋光洗滌磨料，如在洗滌軸承中應(yīng)用，光潔度可達(dá)3.0以上，優(yōu)于同類產(chǎn)品。另外用于拋光金屬表面、精密閥門、硬磁盤、磁頭的拋光，汽車拋光劑，均有很好的效果，因其顆粒球形，區(qū)別于傳統(tǒng)磨料的等積型，這種形狀使磨料顆粒在研磨運(yùn)動中在被加工工件表面，產(chǎn)生滑動的研磨效果，而非傳統(tǒng)磨料的研磨，因而不容易對工件表面產(chǎn)生隨機(jī)劃傷。同時，由于研磨壓力是均勻分布在磨粒表面，顆粒破碎減少，耐磨性大幅提高，因而能提供最佳的磨削效率和表面光潔度。實(shí)驗(yàn)表明，研磨粉能夠減少研磨和拋光次數(shù)至少10-20%,能夠?qū)崿F(xiàn)快速研磨和拋光，建議客戶在使用時以傳統(tǒng)磨料的60%用量為起點(diǎn)。
利用高純球形硅粉造成的超高純硅溶膠拋光液，主要用于硅晶圓片的精密拋光，集成電路的CMP拋光液調(diào)制，廣泛使用在各種尺寸的Si片，Ge片，GaAs片，集成電路中的ILD及導(dǎo)線，石英玻璃，硬盤基片，IC電路，光電子晶體材料，LED藍(lán)寶石襯底片材料等的表面精密化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）加工上。
